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一种间歇式珍珠抛光及筛选装置

申请人:王伟 申请日期:2021-08-26 文献日:2021-11-26 等级:0 文献号:CN113696088A 当前状态:撤回 类型:发明公开 主分类号:B24B31/10 分类号:B24B31/10 申请编号:CN202110985443.0 省份:湖北省 城市:湖北省黄冈市 申请人地址:湖北省黄冈市麻城市龟山乡曹家寨村王家垸32号 申请人地址:湖北省黄冈市麻城市龟山乡曹家寨村王家垸32号 发明者:不公告发明人

总结

本发明专利公开了一种间歇式珍珠抛光及筛选装置,包括抛光结构、筛选结构和支撑结构,抛光结构设于筛选结构的一侧上方,支撑结构设有支撑底座,支撑底座的两侧顶端分别设有第一支撑架和第二支撑架,第一支撑架的内部为腔体结构,第一支撑架内部底端设有返砂结构,第一支撑架的顶端一侧设有位于抛光结构上方的出砂管,出砂管由靠近第一支撑架的一端逐渐倾斜向下。有益效果:能够使珍珠的各个侧面进行缓慢有效的抛光,减少了在抛光过程中对珍珠形状的改变及对珍珠层的损坏,能够加速抛光砂的下漏,同时减少漏砂网垫对珍珠的磨损,能够带动螺纹升降柱进行快速上升,能够完成抛光砂的反复使用功能,能够在珍珠抛光后进行形状筛选。

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