总结
一种喷涂遮蔽治具，涉及到等离子喷涂工艺中的辅助工装，包括堵头；堵头上设置有环盘，环盘将堵头分为塞入部和插接部；分离板；分离板上设有多个呈阵列分布的贯孔；贯孔直径与插接部适配且贯孔直径小于环盘的直径；分离板通过贯孔与插接部插接并使得插接部部分的伸出贯孔；和提取盖；提取盖上与分离板相对的一面内设有阵列分布的磁环体，磁环体与贯孔一一对应设置；磁环体与插接部伸出分离板的部分磁吸配合实现将整个堵头的提取；本方案避免出现传统的工件大面积喷涂不到位的问题；圆柱状结构的堵头仅用于遮蔽工件上的孔，使得孔周围的部分均能够被金属喷涂，相比于传统喷涂能够有效的增加喷涂面积，保证导电性的均匀、保证产品的稳定性。
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