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一种低温真空镀膜装置

申请人:胡均松 申请日期:2020-02-18 文献日:2020-06-09 等级:0 文献号:CN111254405A 当前状态:授权 类型:发明公开 主分类号:C23C14/50 分类号:C23C14/50 申请编号:CN202010099721.8 省份:湖北省 城市:湖北省黄冈市 申请人地址:湖北省黄冈市武穴市梅川镇鲁全二村三组17号 申请人地址:湖北省黄冈市武穴市梅川镇鲁全二村三组17号 发明者:胡均松

总结

本发明提供了一种低温真空镀膜装置,属于镀膜设备技术领域,包括镀膜室以及设置在所述镀膜室内底部的蒸发室,所述蒸发室内底部设置有电热板,所述镀膜室侧方与真空泵相连,所述镀膜室内部设置有盛放组件,所述盛放组件包括环板以及自所述环板内侧贯穿设置并与所述环板固定连接的安装板,所述安装板中部开设有用于安装靶材的卡槽。本发明实施例中,通过第二驱动组件带动第一驱动组件上下移动,第一驱动组件带动安装板以及环板在镀膜室内部上下移动,同时在齿片与齿条的啮合效果下驱使安装板以及靶材转动,从而使得靶材的上下表面均能够与蒸发的涂料进行充分接触,提高了靶材的镀膜效率,具有镀膜效果好、质量高的优点。

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