总结
本实用新型公开了一种行走式水钻清洗系统，属于水钻清洗技术领域。包括水槽结构、多个清洗滚筒、驱动结构、吊装结构、滑行结构和行走结构，水槽结构包括多个水槽，吊装结构设于行走结构上，滑行结构的一端或两端相对于水槽结构的对应端向外延伸形成进出料工位，多个水槽为依次设置的两个清洗水槽和多个漂洗水槽；清洗水槽内设有加热器，其内前后并排设有多个清洗工位；漂洗水槽内仅设有一个清洗工位；每个清洗工位均对应设有一个驱动结构，每相邻2‑5个驱动结构的驱动齿轮通过前后向的蜗杆同步驱动，进出料工位设有一个单独驱动的驱动结构。采用更大的清洗滚筒，每次升降时，仅需要升降一个吊装结构和清洗滚筒；无需多个清洗滚筒同时动作。
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