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一种氟硅酸一步热解制备气相SiO2并回收HF的方法

申请人:黄冈师范学院; 田辉明 申请日期:2020-08-18 文献日:2020-12-08 等级:0 文献号:CN112047349A 当前状态:实质审查 类型:发明公开 主分类号:C01B33/18 分类号:C01B33/18 申请编号:CN202010829495.4 省份:湖北省 城市:湖北省黄冈市 申请人地址:湖北省黄冈市开发区新港二路146号; 申请人地址:湖北省黄冈市开发区新港二路146号; 发明者:田辉明; 田正芳; 喻瑜丽; 黄林勇; 江军民; 雷绍民

总结

本发明涉及一种氟硅酸一步热解制备气相SiO2并回收HF的方法,采用喷雾干燥塔作为反应器,先将高温热风自喷雾干燥塔的热风分布器送入喷雾干燥塔内,然后将氟硅酸水溶液通过喷雾干燥塔的雾化喷嘴喷入喷雾干燥塔内,控制喷雾干燥塔内自上而下温度为450~110℃,收集固体产物得到气相二氧化硅,气体产物用水吸收得到氢氟酸,剩余气体再用碱液吸收后排入大气。本发明可以一步法得到气相SiO2并回收HF,制备方法简单环保,可以很好地实现工业化。所得到的气相SiO2颗粒是在气相的条件下瞬间产生的成核物质,故其具有粒径细(纳米级30‑60nm)、纯度高、比表面积大、表面能大、易团聚等特性,远超GB/T20020‑2013《气相二氧化硅质量标准》的要求。

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