总结
本发明公开了一种陶瓷晶片表面抛光浆料，所述抛光浆料由下述重量百分比的原料组成：硅溶胶90～94％，助磨剂0.05～2％，光亮剂0.01～1％，表面活性剂0.005～0.1％，缓蚀剂0.1％-3％，碱性pH值调节剂0.05～2％，余量为去离子水；将上述几种物质按照一定的配比在碱性环境中配合使用，不仅可以增强陶瓷抛光过程中胶体二氧化硅对陶瓷的去除速率，还可以使混合液分散均匀，使混合液形成稳定的体系，使陶瓷表面光泽度高且镜面效果好，另外，本技术方案提供的纳米浆料不会腐蚀设备也更加环保。本技术方案还提供了一种陶瓷晶片表面抛光浆料的制备方法，操作简单，易于大规模生产。
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