总结
本实用新型属于窑炉及热处理设备技术领域，尤其涉及一种窑炉排胶室密封清理结构。清理结构包括设置于窑炉底部两侧的支撑体以及设于支撑体以及窑炉内壁上的下料通道；支撑体为条状且沿窑炉底部两侧边角延伸，支撑体断面为T形，支撑体的横臂靠近窑炉中间的一侧设置有限位斜面，横臂的另一侧抵在窑炉内壁上；抵在窑炉内壁的一侧上设置有下料孔；下料通道包括埋设于窑炉下方的出料管路，以及连接出料管路和下料孔的收集通道；排胶出料管路通过密封阀与外部水泵连接。本实用新型整体结构简单，施工方便，通过简单地炉体机构实现了窑炉内部杂质的有效清理，避免料车转运过程中将杂质撒落在窑炉内部难以清除的问题。
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