总结
本发明公开了一种用于水钻磨抛的上胶粉装置及上胶粉方法，属于水钻加工技术领域。装置包括机架、机架上且能上下运动的支座、支座与机架之间的升降结构、支座上的粉盘、支座上的刮粉结构和支座与粉盘之间的伺服进退结构；刮粉结构固定在支座上，粉盘能在支座上前后向往复运动；上粉时，伺服进退结构驱动粉盘由起始位置向后步进运动，每次步进运动后，升降结构驱动粉盘上下往复运动一次以进行上粉，此时刮粉结构处于刮平状态；上粉预定次数后，伺服进退结构驱动粉盘向前运动至起始位置，刮粉结构则由粉盘的前部至粉盘的后部，此时刮粉结构处于推粉状态。本专利采用刮粉结构不动，而粉盘运动的方式，能减少上粉过程的扬尘，能减少胶粉的使用量。
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