首页
专利查询
事项快办
运营专利
新闻中心
企业账户
首页
项目申报
运营专利
新闻中心
专利详情
当前位置:
首页
>
专利详情
基本信息
收藏
一种光催化的恩/达格列净前体及其合成方法
申请人:
湖北省宏源药业科技股份有限公司
申请日期:
2022-11-25
文献日:
2023-03-14
等级:
0
文献号:
CN115785045A
当前状态:
实质审查
类型:
发明公开
主分类号:
C07D309/10
分类号:
C07D309/10
申请编号:
CN202211492881.4
省份:
湖北省
城市:
湖北省黄冈市
申请人地址:
湖北省黄冈市凤山镇经济开发区宏源路8号
申请人地址:
湖北省黄冈市凤山镇经济开发区宏源路8号
发明者:
张和; 李晓晖; 张志海; 陶舟; 徐金喜
总结
本发明公开了一种光催化的恩/达格列净前体及其合成方法,包括以下步骤:1)将溴代芳烃底物I、溴代葡萄糖底物II、[Ir]光催化剂、[Ni]金属催化剂、还原剂、添加剂和极性溶剂混合后,在室温,光照,氮气氛围下反应,得到恩/达格列净的中间体III;2)步骤1)所述中间体III进一步的脱去保护基,再通过柱层析或者重结晶纯化后,得到成品恩/达格列净;本发明方法操作简单,室温即可反应,具有操作简单,产率高,立体选择性好等优点,且克级实验证明了其存在大量制备的潜力。
友情链接
湖北省知识产权局
专利和集成电路布图设计业务办理统一身份认证平台
国家专利密集型产品备案平台
国家知识产权局
联系我们
地址:湖北省黄冈市黄州区新港二路17号
电话:0713-8123251
邮箱:824611871@qq.com
关注黄冈智慧知识产权
知识产权
Copyright 2023 版权所有 黄冈智慧知识产权运营中心
鄂ICP备1123663