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一种连续真空镀膜装置

申请人:胡均松 申请日期:2020-04-29 文献日:2020-07-14 等级:0 文献号:CN111411327A 当前状态:撤回 类型:发明公开 主分类号:C23C14/24 分类号:C23C14/24 申请编号:CN202010358393.9 省份:湖北省 城市:湖北省黄冈市 申请人地址:湖北省黄冈市武穴市梅川镇鲁全二村三组17号 申请人地址:湖北省黄冈市武穴市梅川镇鲁全二村三组17号 发明者:胡均松

总结

本发明提供了一种连续真空镀膜装置,属于真空镀膜技术领域,包括镀膜室以及设置在所述镀膜室内底部的蒸发室,所述蒸发室内部设置有加热板,所述镀膜室上部通过支撑筒连接有驱动箱体,所述支撑筒内部设置有镀膜通道,所述驱动箱体上部开设有取放口,所述取放口处设置有密封门,驱动箱体内部对称设置有两组驱动组件,所述驱动组件包括相连相对设置的驱动带轮。本发明实施例中,通过将夹持组件对应安装在两组传动带内侧,并将工件安装在两组夹持组件之间,利用驱动组件带动两组传动带同步运行,从而将工件分别带动至镀膜通道上方,配合摩擦组件带动工件进行转动,实现工件的全面连续镀膜,具有地膜效果好以及效率高的优点。

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