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一种硅片清洗设备

申请人:武汉宜田科技发展有限公司 申请日期:2015-04-23 文献日:2015-08-19 等级:0 文献号:CN204564642U 当前状态:权利终止 类型:实用新型 主分类号:B08B3/04 分类号:B08B3/04 申请编号:CN201520249710.8 省份:湖北省 城市:湖北省黄冈市 申请人地址:湖北省黄冈市红安县经济开发区新型产业园 申请人地址:湖北省黄冈市红安县经济开发区新型产业园 发明者:洪育林; 张震; 安冠宇; 李文文; 刘凯

总结

本实用新型实施例公开了一种硅片清洗设备,该硅片清洗设备包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机;所述上料台与所述硅片清洗机入口端连接,所述喷淋装置至少部分位于所述上料台的上方,以对所述上料台上的硅片进行喷淋。实施本实用新型实施例,具有如下有益效果:本实用新型的硅片清洗设备在上料台上安装有喷淋装置,不间断的向硅片喷淋纯水,避免了硅片由于在上料台上放置时间过长导致的氧化,保证了清洗质量。

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