总结
本实用新型公开了一种光刻胶刻蚀装置，属于光刻胶刻蚀技术领域，包括：刻蚀壳体、固定结构及液体循环结构。刻蚀壳体内部形成一上侧开口的刻蚀腔体，其下侧设有一进液口；固定结构包括基板、若干个置物座及气泵，基板横设于刻蚀腔体内、并将刻蚀腔体分隔以形成一上腔体及一下腔体，基板上开设有多个通槽，当光刻胶晶片板置于置物槽内时，置物槽被光刻胶晶片板分隔并由上至下分别形成一能够与下腔体连通的刻蚀腔及一封闭腔；液体循环结构设于刻蚀壳体且其具有一吸液端及一排液端；本实用新型能够避免光刻胶晶片板与装置的内壁及光刻胶晶片板之间产生碰撞，提高了刻蚀的质量，还使刻蚀液在刻蚀壳体内浓度均匀，利于提高成品质量。
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