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用于平底水钻生产的抛光机

申请人:湖北宇星水钻饰品有限公司 申请日期:2022-03-25 文献日:2022-06-28 等级:0 文献号:CN114670107A 当前状态:公开 类型:发明公开 主分类号:B24B29/02 分类号:B24B29/02 申请编号:CN202210298829.9 省份:湖北省 城市:湖北省黄冈市 申请人地址:湖北省黄冈市黄梅县大胜关山工业园 申请人地址:湖北省黄冈市黄梅县大胜关山工业园 发明者:周志炎; 叶卫

总结

本发明公开了一种用于平底水钻生产的抛光机,属于水钻加工技术领域。包括机架、两个夹具平转结构和两条抛光生产线,两条抛光生产线反向设置且通过两个夹具平转结构构成环形,抛光生产线包括上粉工位、上料工位、磨抛工位、加热工位和卸钻工位;夹具的夹具针在磨抛工位进行60°分度旋转;磨抛工位包括沿夹具的输送方向依次设置的大刻面粗磨工位、大刻面细磨工位、大刻面第一抛光工位、大刻面第二抛光工位、小刻面磨削工位和小刻面抛光工位;在大刻面粗磨工位、大刻面细磨工位、大刻面第一抛光工位和大刻面第二抛光工位处,夹具的进给角度为46±0.5°;在小刻面磨削工位和小刻面抛光工位处,夹具的进给角度为51.7±0.5°。

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