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基本信息

一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂

申请人：武汉宜田科技发展有限公司 申请日期：2022-05-25 文献日：2022-07-29 等级：0 文献号：CN114806752A 当前状态：公开 类型：发明公开 主分类号：C11D10/02 分类号：C11D10/02 申请编号：CN202210572090.6 省份：湖北省 城市：湖北省黄冈市 申请人地址：湖北省黄冈市红安县经济开发区 申请人地址：湖北省黄冈市红安县经济开发区 发明者：杨文勇; 洪育林; 安冠宇

总结

本发明涉及一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂，该清洗剂以重量组分计包括：无机碱15~35份，润湿分散剂5~15，润湿分散剂3~8份，纯水余量。本发明具有如下有益效果：具有高游离碱性的单组分低泡沫类型产品，使用操作方便；对大尺寸单晶硅片表面污物的分散能力强，湿性能佳；易被漂洗、低残留；对沾污硅粉的碱蚀反应能力强，硅片表面的金属离子残留浓度极低；非常适合大尺寸单晶硅片表面的清洗。

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