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一种去除石英砂粉中羟基的方法

申请人:黄冈师范学院; 田辉明 申请日期:2020-04-13 文献日:2020-06-23 等级:0 文献号:CN111320177A 当前状态:公开 类型:发明公开 主分类号:C01B33/12 分类号:C01B33/12 申请编号:CN202010283523.7 省份:湖北省 城市:湖北省黄冈市 申请人地址:湖北省黄冈市开发区新港二路146号 申请人地址:湖北省黄冈市开发区新港二路146号 发明者:田辉明; 田正芳; 黄林勇; 江军民; 雷绍民

总结

本发明涉及一种去除石英砂粉中羟基的方法,先将高纯石英物料送入高温真空炉中,升温至1000~1050℃,通入H2或H2与氮气和/或氦气的混合气体作为还原气体,进行高温还原处理,时间不少于2小时,然后开启真空系统,将温度升至1470~1500℃,真空度6.0×10-6~7.0×10-6pa,进行真空脱气处理,时间3~4小时,即得高纯度低羟基石英砂粉物料。该方法制备出的石英砂粉中羟基含量低于3ppm。

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