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基本信息

一种光电行业蚀刻液的生产方法

申请人：湖北九宁化学科技有限公司 申请日期：2022-10-27 文献日：2022-12-06 等级：0 文献号：CN115433580A 当前状态：公开 类型：发明公开 主分类号：C09K13/08 分类号：C09K13/08 申请编号：CN202211324398.5 省份：湖北省 城市：湖北省黄冈市 申请人地址：湖北省黄冈市黄州区新港大道19号光谷联合科技城三期E14栋102号 申请人地址：湖北省黄冈市黄州区新港大道19号光谷联合科技城三期E14栋102号 发明者：刘松; 高月; 刘东洋; 姜灿; 潘庆祥; 易乐

总结

本发明提供了一种光电行业蚀刻液的生产方法，属于精细氟化工技术领域。本发明首先将氟化钠溶液和氟硅酸溶液混合后进行反应，得到的氟硅酸钠料浆顺次进行离心、精过滤得到含氢氟酸的滤液，再将含氢氟酸的滤液进行纳膜过滤，得到氢氟酸溶液和浊盐液，最后在氢氟酸溶液中加入除杂剂后，再经亚沸精馏得到蚀刻液和低度酸。本发明得到的蚀刻液纯度高、杂质少，产品收率高，可以作为刻蚀剂用于光电行业。

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